Acquaforte è la rimozione selettiva del materiale . Ci sono due modi principali per incidere materiale . Un etch chimico è spesso usato per rimuovere selettivamente un certo materiale lasciando altre aree del campione intatto . Un esempio è l'uso di acido fluoridrico per asportare selettivamente il biossido di silicio . Un secondo modo per etch è di posizionare il campione in una camera a vuoto poi introdurre un gas , come l'argon . L' argon viene ionizzato mediante una serie di elettrodi e accelerato contro il campione . Gli ioni bombardano il campione e rimuovere il materiale . Poiché tutte le parti del campione sono bombardati , non è una etch selettiva , e tutte le superfici esposte avrà il materiale rimosso.
Riduzione in metallo Spessore
esporre qualsiasi metallica campione di un etch ridurrà lo spessore del campione . Questo è spesso il risultato desiderato della etch . Al fine di eliminare una certa quantità di materiale , il metallo deve essere esposto alla etch per un determinato periodo di tempo , per esempio , un minuto. Lo spessore deve quindi essere misurato in modo da ottenere un tasso di etch , come 10 nanometri al secondo.
Film Roughness
Anche se l'obiettivo di un etch è quello di ridurre lo spessore del metallo , questo normalmente ha un prezzo . Il film rugosità metallico può essere una quantità molto importante ed è tipicamente misurata con un dispositivo chiamato un microscopio a forza atomica . In generale , più un materiale è inciso , maggiore è la rugosità pellicola metallica diventa .
Grain Size
film metallici costituiti da molti milioni di piccoli granelli che sono tipicamente in la dimensione di 5 a 100 nanometri . Come film metallici sono incise , la dimensione media della granulometria può essere ridotta , ma questo è fortemente dipendente dal tipo di etch , il tempo e etch etch potenza se è un etch ione .