rivestimenti a film sottile sono utilizzati in molte applicazioni tecnologiche come lenti ottiche , sensori magnetici e tecnologie dei semiconduttori . Ci sono molti modi per depositare un rivestimento a pellicola sottile ; questi metodi includono evaporazione termica , deposizione laser pulsata e sputtering . Sputtering è una tecnica versatile e permette la deposizione di film sottili con precisione nanometrica . Sputtering è anche in grado di depositare metalli o ossidi metallici su una vasta gamma di superfici come il materials.Things di plastica che ti serviranno
sistema sputtering a radiofrequenza
metallo di destinazione ossido di polverizzazione
cacciavite di precisione

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Aprire un sistema di sputtering . Rimuovere lo scudo pistola polverizzazione e svitare l'anello che tiene la vostra destinazione sputtering a posto . Posizionare il bersaglio ossido metallico sulla pistola polverizzazione e avvitare al suo posto sul ring bersaglio con un cacciavite di precisione . Sostituire lo scudo pistola polverizzazione . Posizionare il substrato di plastica nel supporto substrato. Chiudere l'impianto sputtering .
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pompa, il sistema di sputtering fino ad una pressione adeguata impostazione come 10 ^ -6 millibar . Assicurarsi che l'otturatore è chiuso in modo che il substrato non è esposto ad una deposizione fino a quando necessario . Introdurre gas argon del sistema nella camera fino a raggiungere una pressione di circa 5 millibar .
3

Accendere l' alimentazione a radiofrequenza . Attendere che un plasma visibile può essere visto all'interno della camera sputtering . Aprire l'otturatore . Il substrato di plastica viene ora esposto ad una deposizione di molecole di ossido di metallo . Chiudere l'otturatore quando è stato ottenuto lo spessore desiderato.